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    如何根據應用選擇本公司濺射鍍膜儀或蒸鍍儀



    應用

    設備

    特點

    1

    表面鍍貴金屬用于薄膜研究(<2”

    3靶等離子濺射鍍膜儀VTC-16-3HD

    同一腔室中3靶頭用于貴金屬的濺射鍍膜

    2

    表面鍍各種金屬用于薄膜研究(<2”

    小型等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-16-SM

    ?磁控濺射鍍膜

    ?最大濺射電流可達150mA?可用于濺射各種輕金屬如Al,  Sn, Zn 等

    3

    表面鍍絕大多數的金屬或無機非金屬材料薄膜(<2”

    精密溫控高真空蒸發鍍膜儀GSL-1700X-SPC-2

    ?高真空蒸發鍍膜儀

    ?蒸鍍溫度從200-1500℃(或選配B型熱電偶,蒸鍍溫度可從1200-1700℃

    4

    表面鍍氧化物薄膜(<2”

    1英寸或2英寸300W射頻等離子磁控濺射儀VTC-2RF


    ?低成本

    ?射頻電源

    5

    各種材料表面進行光學涂層(多晶)(<4”

    超高真空4蒸發舟蒸發鍍膜儀GSL-1800-ZF4

    ?分子泵高真空

    ?4個蒸鍍加熱舟

    6

    金屬及無機非金屬氧化物薄膜的外延生長(<4”

    DC/RF雙靶頭高真空等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-600-2HD

    ?配備有直流以及射頻電源,分子泵

    ?可用于各種材料薄膜的外延生長

    ?同時配備測厚儀實時監控薄膜厚度


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    如何為CVD設備選型

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